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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:陳譽文
研究生(外文):CHEN, YU-WEN
論文名稱:兩性離子抗靜電劑的添加對光固化樹脂在3D列印應用的影響
論文名稱(外文):Effects of Zwitterionic Antistatic Liguids Addition on 3D Printing UV Curing Resin
指導教授:何宗漢何宗漢引用關係
指導教授(外文):HO, Tsung-Han
口試委員:何宗漢鄭錫勳謝正悅吳昇翰
口試委員(外文):HO, Tsung-HanCHENG, SHI-SHIUNSIE, JHENG-YUEWu, Sheng-Han
口試日期:2019-06-19
學位類別:碩士
校院名稱:國立高雄科技大學
系所名稱:化學工程與材料工程系
學門:工程學門
學類:化學工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2019
畢業學年度:107
語文別:中文
論文頁數:65
中文關鍵詞:3D列印紫外線固化抗靜電離子液體
外文關鍵詞:3D PrintingUV CuringAntistaticIonic Liquid
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